芯片失效分析
28芯片失效分析是保障产品可靠性与提升良率的关键环节。面对芯片功能异常、短路、漏电或批量失效等挑战,我们依托系统化的分析流程、国际一流的硬件平台与资深专家团队,为客户提供从现象到根因的全方位失效分析解决方案,助力定位设计缺陷、工艺问题与应用故障,实现快速闭环与产品改进。
核心业务能力
我们提供覆盖芯片全生命周期的失效分析服务,包括:
电学特性验证:ATE测试、探针台测量、I-V曲线分析
非破坏性检测(NDA):X-Ray/CT 2D/3D成像、红外热成像、超声波扫描(SAM)
破坏性物理分析(DPA):化学/激光开封、FIB/SEM剖面、EDS元素分析
电路级失效定位:EMMI光子发射、OBIRCH激光诱导、电子束探针
材料与表面分析:SIMS、XPS、AFM等表面与成分表征
典型分析流程
我们遵循“由表及里、先非破坏后破坏”的系统化分析逻辑:
失效复现与电学定位: 基于失效背景与ATE测试,复现故障并锁定异常电性参数,缩小失效范围。
非破坏性内部检测: 通过X-Ray CT、热成像、SAM等技术,无损检测封装内部结构、热分布与界面缺陷。
微观物理分析与材料表征: 进行精准开封、FIB剖面制备,利用SEM/TEM观察纳米级缺陷,并通过EDS/SIMS分析成分与污染。
电路与器件级精确定位: 应用EMMI、OBIRCH等高精度定位技术,在晶体管或电路节点层面识别漏电、短路、断路等故障点。
根因诊断与改进建议: 结合电学-物理-材料数据,构建失效机理模型(如电迁移、HCI、ESD损伤等),并提供设计、工艺或应用端的改进方案。
技术特色与优势
高端设备平台:配备双束FIB、高分辨率SEM、3D X-Ray、全自动探针台等先进设备
跨工艺节点经验:涵盖从成熟制程到先进封装(Flip-Chip, SiP, Fan-Out)的失效分析案例
工程专家团队:由半导体物理、器件工程、材料科学背景的资深工程师主导项目
分析流程标准化:严格执行数据交叉验证与样品保护流程,确保分析结果准确可靠
典型应用场景
研发阶段:功能异常、参数漂移、可靠性测试失效
量产与封装:焊球空洞、线缆断裂、分层、污染相关失效
现场应用:过压/过流损伤、ESD/EOS事件、热疲劳失效
可靠性提升:HTOL、ELFR等测试中的早期失效分析与机理研究
为什么选择我们?
我们致力于将失效分析转化为产品竞争力的关键支撑。通过精准定位、快速响应与深度诊断,帮助客户缩短开发周期、提高良率、降低现场失效率,为芯片的全生命周期质量保驾护航。如需了解更多或洽谈合作,欢迎联系我们: info@hypersemi.com.cn
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